2012-07-20
[3112]
分析方法 縮寫 分析原理 譜圖的表示方法 提供的信息 紫外吸收光譜
UV
吸收紫外光能量，引起分子中電子能級(jí)的躍遷 相對(duì)吸收光能量隨吸收光波長(zhǎng)的變化 吸收峰的位置、強(qiáng)度和形狀，提供分子中不同電子結(jié)構(gòu)的信息 熒光光譜法
FS
被電磁輻射激發(fā)后，從zui低單線激發(fā)態(tài)回到單線基態(tài)，發(fā)射熒光 發(fā)射的熒光能量隨光波長(zhǎng)的變化 熒光效率和壽命，提供分子中不同電子結(jié)構(gòu)的信息 紅外吸收光譜法
IR
吸收紅外光能量，引起具有偶極矩變化的分子的振動(dòng)、轉(zhuǎn)動(dòng)能級(jí)躍遷 相對(duì)透射光能量隨透射光頻率變化 峰的位置、強(qiáng)度和形狀，提供功能團(tuán)或化學(xué)鍵的特征振動(dòng)頻率 拉曼光譜法
Ram
吸收光能后，引起具有極化率變化的分子振動(dòng)，產(chǎn)生拉曼散射 散射光能量隨拉曼位移的變化 峰的位置、強(qiáng)度和形狀，提供功能團(tuán)或化學(xué)鍵的特征振動(dòng)頻率 核磁共振波譜法
NMR
在外磁場(chǎng)中，具有核磁矩的原子核，吸收射頻能量，產(chǎn)生核自旋能級(jí)的躍遷 吸收光能量隨化學(xué)位移的變化 峰的化學(xué)位移、強(qiáng)度、裂分?jǐn)?shù)和偶合常數(shù)，提供核的數(shù)目、所處化學(xué)環(huán)境和幾何構(gòu)型的信息 電子順磁共振波譜法
ESR
在外磁場(chǎng)中，分子中未成對(duì)電子吸收射頻能量，產(chǎn)生電子自旋能級(jí)躍遷 吸收光能量或微分能量隨磁場(chǎng)強(qiáng)度變化 譜線位置、強(qiáng)度、裂分?jǐn)?shù)目和超精細(xì)分裂常數(shù)，提供未成對(duì)電子密度、分子鍵特性及幾何構(gòu)型信息 質(zhì)譜分析法
MS
分子在真空中被電子轟擊，形成離子，通過電磁場(chǎng)按不同m/e分離 以棒圖形式表示離子的相對(duì)峰度隨m/e的變化 分子離子及碎片離子的質(zhì)量數(shù)及其相對(duì)峰度，提供分子量，元素組成及結(jié)構(gòu)的信息 氣相色譜法
GC
樣品中各組分在流動(dòng)相和固定相之間，由于分配系數(shù)不同而分離 柱后流出物濃度隨保留值的變化 峰的保留值與組分熱力學(xué)參數(shù)有關(guān)，是定性依據(jù)；峰面積與組分含量有關(guān) 反氣相色譜法
IGC
探針分子保留值的變化取決于它和作為固定相的聚合物樣品之間的相互作用力 探針分子比保留體積的對(duì)數(shù)值隨柱溫倒數(shù)的變化曲線 探針分子保留值與溫度的關(guān)系提供聚合物的熱力學(xué)參數(shù) 裂解氣相色譜法
PGC
高分子材料在一定條件下瞬間裂解，可獲得具有一定特征的碎片 柱后流出物濃度隨保留值的變化 譜圖的指紋性或特征碎片峰，表征聚合物的化學(xué)結(jié)構(gòu)和幾何構(gòu)型 凝膠色譜法
GPC
樣品通過凝膠柱時(shí)，按分子的流體力學(xué)體積不同進(jìn)行分離，大分子先流出 柱后流出物濃度隨保留值的變化 高聚物的平均分子量及其分布 熱重法
TG
在控溫環(huán)境中，樣品重量隨溫度或時(shí)間變化 樣品的重量分?jǐn)?shù)隨溫度或時(shí)間的變化曲線 曲線陡降處為樣品失重區(qū)，平臺(tái)區(qū)為樣品的熱穩(wěn)定區(qū) 熱差分析
DTA
樣品與參比物處于同一控溫環(huán)境中，由于二者導(dǎo)熱系數(shù)不同產(chǎn)生溫差，記錄溫度隨環(huán)境溫度或時(shí)間的變化 溫差隨環(huán)境溫度或時(shí)間的變化曲線 提供聚合物熱轉(zhuǎn)變溫度及各種熱效應(yīng)的信息 示差掃描量熱分析
DSC
樣品與參比物處于同一控溫環(huán)境中，記錄維持溫差為零時(shí)，所需能量隨環(huán)境溫度或時(shí)間的變化 熱量或其變化率隨環(huán)境溫度或時(shí)間的變化曲線 提供聚合物熱轉(zhuǎn)變溫度及各種熱效應(yīng)的信息 靜態(tài)熱―力分析
TMA
樣品在恒力作用下產(chǎn)生的形變隨溫度或時(shí)間變化 樣品形變值隨溫度或時(shí)間變化曲線 熱轉(zhuǎn)變溫度和力學(xué)狀態(tài) 動(dòng)態(tài)熱―力分析
DMA
樣品在周期性變化的外力作用下產(chǎn)生的形變隨溫度的變化 模量或tgδ隨溫度變化曲線 熱轉(zhuǎn)變溫度模量和tgδ 透射電子顯微術(shù)
TEM
高能電子束穿透試樣時(shí)發(fā)生散射、吸收、干涉和衍射，使得在相平面形成襯度，顯示出圖象 質(zhì)厚襯度象、明場(chǎng)衍襯象、暗場(chǎng)衍襯象、晶格條紋象、和分子象 晶體形貌、分子量分布、微孔尺寸分布、多相結(jié)構(gòu)和晶格與缺陷等 掃描電子顯微術(shù)
SEM
用電子技術(shù)檢測(cè)高能電子束與樣品作用時(shí)產(chǎn)生二次電子、背散射電子、吸收電子、X射線等并放大成象 背散射象、二次電子象、吸收電流象、元素的線分布和面分布等 斷口形貌、表面顯微結(jié)構(gòu)、薄膜內(nèi)部的顯微結(jié)構(gòu)、微區(qū)元素分析與定量元素分析等
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